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電解式測厚儀在金屬鍍層、半導體薄膜及工業(yè)品控領(lǐng)域具有重要應用。日本Densoku的GCT-311、CT-6和CT-3三款機型在測量功能、操作方式及適用場(chǎng)景上存在顯著(zhù)差異。本文從測量原理、技術(shù)參數、數據處理能力及行業(yè)適配性等方面進(jìn)行系統對比,為科研機構、制造業(yè)及質(zhì)檢部門(mén)提供選型參考。
電解式測厚儀基于法拉第電解定律,通過(guò)可控電流溶解鍍層,依據溶解時(shí)間計算厚度。Densoku三款機型在技術(shù)實(shí)現上存在以下差異:
GCT-311:采用高精度恒流源(±0.1%穩定性),支持四層鍍層逐層分析,并具備擴散層檢測能力,適用于復雜鍍層體系。
CT-6:優(yōu)化了快速電解算法,適用于產(chǎn)線(xiàn)快速檢測,并可適配半導體薄膜(如SiO?、Si?N?)的特殊電解液。
CT-3:采用機械式刻度盤(pán)調節,操作簡(jiǎn)單,適合穩定環(huán)境下的常規測量,尤其擅長(cháng)超薄層(<1μm)與厚鍍層(≤300μm)檢測。
功能 | GCT-311 | CT-6 | CT-3 |
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最大測量層數 | 4層(含擴散層) | 2層 | 3層(含擴散層) |
測量范圍 | 0.006–300μm (±1%) | 未公開(kāi)(側重工業(yè)快速檢測) | 0.006–300μm (±1%) |
特殊應用 | 標準板制作、非破壞測厚儀校準 | 半導體薄膜測量 | 超薄/超厚鍍層高精度測量 |
GCT-311:適用于科研及制造,如航空航天多層鎳鍍層的電位差分析(STEP測試)。
CT-6:在半導體行業(yè)可檢測晶圓鈍化層(如100nm氧化硅膜)。
CT-3:經(jīng)濟實(shí)用,適合電鍍廠(chǎng)對常規鍍層(如鋅、鉻)的快速檢測。
特性 | GCT-311 | CT-6 | CT-3 |
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操作方式 | 電腦軟件控制,全自動(dòng)化 | 一鍵啟動(dòng)自動(dòng)測量 | 機械刻度盤(pán)手動(dòng)設置 |
數據管理 | 統計報告生成、MES系統對接 | 均值/標準差計算 | 僅實(shí)時(shí)顯示 |
批量測量能力 | 支持50點(diǎn)連續測量 | 10點(diǎn)記憶求平均 | 單點(diǎn)重復測量 |
GCT-311:適合需要完整數據追溯的場(chǎng)景(如醫療植入物鍍層認證)。
CT-6:適用于產(chǎn)線(xiàn)高頻抽檢(如汽車(chē)緊固件鍍鋅層每小時(shí)檢測)。
CT-3:操作簡(jiǎn)單,適合中小型企業(yè)基礎品控。
應用案例:
汽車(chē)輪轂多層鍍層(Cu+Ni+Cr)的逐層分析。
PCB金手指鍍金層(0.05–0.5μm)的精密測量。
優(yōu)勢:支持復雜鍍層體系,數據可追溯,符合ISO/IEC 17025實(shí)驗室標準。
應用案例:
汽車(chē)緊固件鋅鎳鍍層(8–12μm)的快速抽檢。
半導體引線(xiàn)框架銀鍍層(2μm±0.2μm)的工藝管控。
優(yōu)勢:檢測速度快(單次測量<30秒),適合高頻次質(zhì)量控制。
應用案例:
水電工程鋼構件熱浸鋅層(80–100μm)測量。
衛浴五金裝飾性鍍層(Cu+Ni+Cr)總厚度檢測。
優(yōu)勢:機械結構堅固,適合車(chē)間環(huán)境(防塵等級IP54)。
需求場(chǎng)景 | 推薦型號 | 理由 |
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復雜鍍層科研分析 | GCT-311 | 支持四層測量、擴散層分析,數據可對接MES系統 |
產(chǎn)線(xiàn)高頻快速檢測 | CT-6 | 自動(dòng)化操作,適合半導體薄膜及常規金屬鍍層 |
中小企業(yè)基礎品控 | CT-3 | 經(jīng)濟實(shí)用,操作簡(jiǎn)單,適合穩定環(huán)境下的常規鍍層測量 |
Densoku電解式測厚儀的GCT-311、CT-6和CT-3三款機型形成了完整的技術(shù)覆蓋:
用戶(hù)可根據鍍層復雜度、數據管理要求及檢測環(huán)境選擇適配型號,以實(shí)現優(yōu)的鍍層質(zhì)量控制。