碳鍍膜機與高真空蒸發(fā)設備的區別

碳鍍膜機主要分為僅有旋轉泵排氣的設備或配備渦輪泵的高真空蒸發(fā)設備。了解高真空蒸發(fā)設備性能的差異在選擇設備時(shí)非常有用。

	旋轉泵排氣氣相沉積設備 VC-300S/W、VES-10	高真空抽真空沉積設備 VE-2013、VE-2050 等
真空排氣系統	旋轉泵	旋轉泵+渦輪分子泵
沉積真空度	1-2（帕）	5×10 -3 (Pa)以下
顆粒感	顆粒細，但膜較粗。	顆粒細密，膜質(zhì)美觀(guān)。
膜質(zhì)量	該薄膜粗糙且易碎，因為它在與殘余分子碰撞時(shí)積累。	無(wú)殘留分子，顆粒呈直線(xiàn)飛行、粘附，膜質(zhì)潔凈、堅固。
環(huán)繞能力	它在與殘余分子碰撞時(shí)向多個(gè)方向散射，因此具有一些環(huán)繞特性。	顆粒沿直線(xiàn)飛行并粘附，但在陰影區域不形成薄膜。
使用碳氣相沉積的目的	切片和支撐膜的加固、元素分析、高倍SEM觀(guān)察、FIB保護膜等。	切片和支撐膜的強化、元素分析、高倍SEM觀(guān)察、FIB保護膜、碳支撐膜的制作、遮蔽法等。

*碳鍍膜機是針對特定用途而設計的，其用途有限，但可以降低設備價(jià)格。

該裝置是用于TEM、SEM、X射線(xiàn)分析等的碳膜生成裝置。用于防止樹(shù)脂嵌入樣品等的充電。 300W 用于創(chuàng )建特別厚的碳膜，例如 XMA 和 FIB 樣品的保護膜。

使用旋轉泵進(jìn)行碳沉積，同時(shí)使用皮拉尼真空計監測真空水平。通過(guò)始終蒸發(fā)一定量的碳，可以實(shí)現高度可再現的碳沉積。

請使用專(zhuān)用補充裝SLC-30作為碳源。
300S有一對電極，300W有兩對電極。 300W 使您可以通過(guò)開(kāi)關(guān)將涂層厚度增加一倍。
旋轉泵（RP）為外置落地式。請將其安裝在堅固的工作臺上，以免與RP的振動(dòng)產(chǎn)生共振。無(wú)需水冷。

該產(chǎn)品是一套裝置，包括裝置本身、旋轉泵和 SUS 軟管。
需要親臨現場(chǎng)講解安裝和操作。

VC-300設備規格

VC-300 耗材清單

專(zhuān)用碳
SLC-30
1箱（100個(gè)）

碳纖維
SLC-30
值 10 盒套裝

VC300玻璃鋼瓶包裝（2件1套）

VC300 玻璃腔體

如果夾緊彈簧和防塵板等零件出現劣化或損壞，我們還可以單獨制造它們。
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