關(guān)于磁控濺射設備MSP-8in 推薦實(shí)用程序

該裝置是使用磁控管靶的金屬鍍膜裝置。用于8英寸晶圓等大面積樣品，以及多個(gè)樣品的同時(shí)處理。

MSP-8in的靶電極沿靶金屬表面形成多個(gè)同心磁場(chǎng)，通過(guò)捕獲該磁場(chǎng)中的電子，提高濺射靶金屬的等離子體離子密度。設定磁場(chǎng)的強度，使得沉積的金屬膜的厚度從靶的中心到外周是均勻的。

該產(chǎn)品是一套包括裝置本身、一種目標金屬（請指類(lèi)型）、旋轉泵和 SUS 軟管。
該設備需要安裝和操作說(shuō)明。

MSP-8in 消耗品/零件清單

MSP-8in [t=0.1mm]的
金靶材

MSP-8in 的
Pt 靶材
[t=0.1mm]

MSP-8in [t=0.5mm]的
銀靶

如果您需要其他目標類(lèi)型，請聯(lián)系我們。
*該設備只能與貴金屬目標一起使用。
*Target 需要重新裝修工作。

對于任何其他維護/維修查詢(xún)，請通過(guò)服務(wù)查詢(xún)與我們聯(lián)系。

關(guān)于 MSP-8in 推薦實(shí)用程序

由于本裝置是大容量、大面積的裝置，建議使用氬氣。

濺射金屬粒子的比較

Au：金
觀(guān)察面積：數千至10,000倍
Au-Pd：金鈀
觀(guān)察面積：10,000至50,000倍
適合低倍率觀(guān)察，對比度良好。

Pt：鉑
觀(guān)察面積：10,000～50,000倍
Pt-Pd：鉑鈀
觀(guān)察面積：30,000～50,000倍
粒徑細小，常用于高倍率觀(guān)察。