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半導體器件制造過(guò)程中液體成分濃度檢測設備ChemicAlyzer介紹

發(fā)布時(shí)間:2024-11-22 點(diǎn)擊量:687

半導體器件制造過(guò)程中液體成分濃度檢測設備ChemicAlyzer介紹

ChemicAlyzer是一款利用光吸收原理并采用在線(xiàn)設計實(shí)現連續測量的液體成分濃度計。自 1990 年作為紅外液體成分濃度計的先驅開(kāi)始業(yè)務(wù)以來(lái),我們利用豐富的專(zhuān)業(yè)知識和技術(shù),響應不斷發(fā)展的半導體器件制造過(guò)程中的測量需求,提高質(zhì)量和化學(xué)濃度。管理。
我們將通過(guò)靈活應對工藝和特殊化學(xué)溶液,并通過(guò)高精度化學(xué)濃度測量“滿(mǎn)足一步的測量需求",繼續為制造工藝的優(yōu)化做出貢獻。

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  • 高質(zhì)量

    我們?yōu)槊總€(gè)測量目標選擇最佳波長(cháng),并為每個(gè)設備創(chuàng )建校準曲線(xiàn)。
    我們提供穩定的產(chǎn)品,機器變化很小,并通過(guò)了檢驗測試。

  • 02

    高性能

    ChemicAlyzer 是一款高性能濃度計,具有出色的響應和分辨率。
    可以控制濃度,而不會(huì )遺漏高度分解成分的哪怕最輕微的變化。

  • 03

    高耐用性

    有助于降低長(cháng)期運行成本。
    十多年來(lái),我們一直持續提供支持,并擁有客戶(hù)使用我們產(chǎn)品的記錄。

倉敷紡績(jì)的成分濃度計應用于以下行業(yè)!

  • 晶圓制造流程

  • 半導體制造工藝


    • 液晶面板制造流程

    • 板材制造流程

    • 晶體諧振器制造工藝

  • ?抗蝕劑剝離液的濃度控制

  • ?再生藥液的濃度管理

  • ?后處理用化學(xué)溶液的濃度控制

  • ?酸堿清洗液的濃度控制

  • ?氧化膜/氮化膜蝕刻液的濃度控制

  • ?其他特殊化學(xué)溶液的濃度控制

它還用于廣泛的行業(yè),包括電池材料制造過(guò)程以及清酒和醋的發(fā)酵測量。
我們的高性能測量技術(shù)得到了高度評價(jià),在日本、東亞和美國已銷(xiāo)售超過(guò)3,000臺!

基本規格

測量方法近紅外透射光譜
最短測量時(shí)間2秒
測量值輸出DC4-20mA
輸入信號晶體管電流驅動(dòng)輸入(測量、校準、預熱結束等)
輸出信號集電極開(kāi)路輸出(READY、BUSY、設備錯誤、測量、成功、上下限報警等)
接液部件材料石英池規格:PFA、PTFE、石英(池)、全氟(O 型圈)
藍寶石池規格:PFA、PTFE、藍寶石(池)、Kalrez(O 型圈)
最大工作壓力0.2MPa
配管直徑IN: Φ3 × Φ2 OUT: Φ4 × Φ3 (mm) 包含每根 1m 管

化學(xué)液體清單

主要用途成分1成分2成分3評論通用名推薦高精度型需要特殊波長(cháng)
半導體雙氧水

APM、SC1

高頻





高頻

氫氟酸
H 2 SO 4雙氧水

SPM

高頻雙氧水

氟甲基丙烯酸甲酯

高頻雙氧水
氟甲基丙烯酸甲酯
高頻鹽酸


高頻H2SiF6



人機交互雙氧水

HPM、SC2
氫氧化鉀雙氧水




氫氧化鈉雙氧水




H 3 PO 4





高頻NH4F



高頻硝酸3



高頻雙氧水CH3COOH


液晶四甲基氫氧化銨

開(kāi)發(fā)商


H 3 PO 4硝酸3CH3COOH蝕刻

H 2 SO 4雙氧水蝕刻
溶劑抗剝落
其他的異丙醇







有機溶劑中微量水分

CH3COOHC2H5OH


C2H5OH葡萄糖
日本清酒

*由于采用光學(xué)方法,因此無(wú)法測量不透光的不透明化學(xué)溶液