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japansensor溫度計在硅單晶上拉裝置溫度控制上的運用

發(fā)布時(shí)間:2023-03-15 點(diǎn)擊量:951

japansensor溫度計在硅單晶上拉裝置溫度控制上的運用

在坩堝中熔化多晶硅時(shí)的溫度控制,以及晶種后旋轉時(shí)的溫度控制。

從提升設備的視口進(jìn)行溫度測量。

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客戶(hù)的要求

我們希望通過(guò)準確捕獲熔化溫度來(lái)捕獲晶體起始點(diǎn)。

在許多情況下,測量距離相對較長(cháng),但目標尺寸需要相當小。 換句話(huà)說(shuō),需要長(cháng)距離和小光斑類(lèi)型。

由于環(huán)境溫度很高,因此耐熱溫度高就更好了。

客戶(hù)的要求

我們希望通過(guò)準確捕獲熔化溫度來(lái)捕獲晶體起始點(diǎn)。

在許多情況下,測量距離相對較長(cháng),但目標尺寸需要相當小。 換句話(huà)說(shuō),需要長(cháng)距離和小光斑類(lèi)型。

由于環(huán)境溫度很高,因此耐熱溫度高就更好了。

相關(guān)產(chǎn)品運用

  • 1ms光纖型半階型,可在惡劣環(huán)境和狹窄空間內自由使用

  • 光纖型輻射溫度計FTKX系列

    測量溫度范圍:100°C ~ 2000°C

    • 纖維類(lèi)型(耐熱性和耐磁場(chǎng)性)

    • 高溫

    • 用于石英

    • 0.1ms/1ms快速響應

    • 用于金屬

  • 1ms輻射溫度計,其規格可根據要測量的對象而改變

    無(wú)纖型輻射溫度計FLHX系列

    測量溫度范圍:90°C ~ 2000°C

    • 高溫

    • 用于石英

    • 0.1ms/1ms快速響應

    • 用于金屬